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CVD镀膜设备

CVD镀膜设备产品
CVD镀膜设备
CVD镀膜设备
金属有机源气相沉积系统--MOCVD
编号:
MOCVD系统主要由真空室反应系统、气体(载气与气相有机源)输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。
高真空硬碳膜制备系统--FHL600
编号:
本系统为单室立式结构的高真空镀镀膜设备,可用于开发单层膜-类金刚石膜等。系统主要由镀膜室、靶电极、射频电源、样品转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、加热控温系统、水冷却系统等组成。
高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积及热丝CVD系统---PECVD+热丝CVD400
编号:
系统主要由真空反应室、上盖组件、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统--Cluster PECVD
编号:
系统主要由真空反应室、上盖组件、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
高真空等离子体增强化学气相薄膜沉积系统--线列式PECVD
编号:
系统主要由真空反应室、上盖组件、热丝架、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
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