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金属有机源气相沉积系统--MOCVD
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金属有机源气相沉积系统--MOCVD

MOCVD系统主要由真空室反应系统、气体(载气与气相有机源)输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。
零售价
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市场价
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浏览量:
1000
产品编号
所属分类
MOCVD镀膜设备
真空室结构:
卧室
真空室尺寸:
Ф400mm×300mm(L)
极限真空度:
10 Pa
沉积源:
设计待定
样品尺寸,温度:
设计待定
占地面积(长x宽x高):
约4.5米x3.5米x3米(设计待定)
电控描述:
屏幕操作
工艺:
不含工艺
特色参数 :
数量
-
+
库存:
1
产品描述
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产品概述:
MOCVD系统主要由真空室反应系统、气体(载气与气相有机源)输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。

设备用途:
MOCVD系统作为化合物半导体、超导等薄膜材料研究和生产的手段,特别是作为工业化生产的设备,有着其它半导体设备无法替代的优点。它的高质量、稳定性、重复性及多功能性越来越为人们所重视。它是当今世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段,如激光器、发光二极管、高效太阳能电池、光电阴极等,是光电子等产业不可缺少的设备。
 

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