热门搜索:磁控溅射   PVD镀膜   真空泵
您现在的位置:
首页
/
/
/
/
高真空硬碳膜制备系统--FHL600
产品对比
(
0
)
最多可同时对比5款产品
对比 ( 0 / 5 )
关闭
产品对比 ( 0 )
您还没有添加产品哦~
请先在网站后台添加数据记录。
关闭
清空
对比
这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称

高真空硬碳膜制备系统--FHL600

本系统为单室立式结构的高真空镀镀膜设备,可用于开发单层膜-类金刚石膜等。系统主要由镀膜室、靶电极、射频电源、样品转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、加热控温系统、水冷却系统等组成。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
圆筒形上升盖
真空室尺寸:
φ600×500mm
极限真空度:
≤6.0E-4Pa
沉积源:
样品尺寸,温度:
φ240mm,1片,水冷却
占地面积(长x宽x高):
约3米×1.1米x2米
电控描述:
全自动
工艺:
提供标准镀膜工艺
特色参数 :
1路工作气路,2路备用气路
数量
-
+
库存:
1
产品描述
[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[产品参数, 参数]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]

产品概述:
本系统为单室立式结构的高真空镀镀膜设备,可用于开发单层膜-类金刚石膜等。系统主要由镀膜室、靶电极、射频电源、样品转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、加热控温系统、水冷却系统等组成。

设备用途:
可用于开发类金刚石膜等
 

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
上一个
下一个

相关下载

暂时没有内容信息显示
请先在网站后台添加数据记录。

请您留下宝贵意见和建议

留言应用名称:
客户留言
描述:
这是描述信息

扫一扫关注
微信公众平台

Copyright 2020 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司    网站建设:中企动力   沈阳     辽ICP备15011951号