高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统--PC450

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。

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产品编号

所属分类

磁控溅射镀膜系统

真空室结构:

圆筒形侧开门

真空室尺寸:

Ф450x550mm

极限真空度:

≤8.0E-5Pa

沉积源:

永磁靶2套，φ3英寸

样品尺寸，温度:

小型粉末颗粒状样品

占地面积（长x宽x高）:

约1米x1.8米x2米

电控描述:

全自动

工艺:

无

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
本系统可以在粉末颗粒状样品表面镀制金属膜、磁性膜、绝缘膜等，采用行业领先的软件控制系统。

设备用途：
可广泛应用于大专院校、科研院所的粉末样品表面镀制薄膜材料的科研项目。