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高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统--PC450
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高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统--PC450

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
零售价
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市场价
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浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
圆筒形侧开门
真空室尺寸:
Ф450x550mm
极限真空度:
≤8.0E-5Pa
沉积源:
永磁靶2套,φ3英寸
样品尺寸,温度:
小型粉末颗粒状样品
占地面积(长x宽x高):
约1米x1.8米x2米
电控描述:
全自动
工艺:
特色参数 :
数量
-
+
库存:
1
产品描述
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产品概述:
本系统可以在粉末颗粒状样品表面镀制金属膜、磁性膜、绝缘膜等,采用行业领先的软件控制系统。

设备用途:
可广泛应用于大专院校、科研院所的粉末样品表面镀制薄膜材料的科研项目。

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