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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450

产品对比

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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。

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浏览量:

1000

产品编号

所属分类

磁控溅射镀膜系统

真空室结构:

圆筒形前开门

真空室尺寸:

φ450x400mm

极限真空度:

≤6.6E-6Pa

沉积源:

永磁靶3套，φ2英寸，可以向上溅射或向下溅射。

样品尺寸，温度:

φ4英寸，1片，最高800℃

占地面积（长x宽x高）:

约1米×1.8米×2米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性：≤±3%

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。

设备用途：
可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

用户评价：
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关，功能齐全，性能稳定，自动化程度高，抽气极速平稳，电源稳定可靠，气路流畅密闭，镀膜质量平整光滑，均匀致密，结合力强，且系统操控智能，便捷，可满足科研实验与生产制造的需求，是一款优秀的磁控溅射镀膜系统。——北京石墨烯技术研究院有限公司李老师

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高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统--PC450

高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450

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