SMART蒸发薄膜沉积系统

该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。

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产品编号

所属分类

蒸发镀膜设备

真空室结构:

六边形侧开门

真空室尺寸:

φ350×370mm

极限真空度:

≤6.6E-4Pa

沉积源:

1个钨舟、2个有机源

样品尺寸，温度:

最大可放置4片20mmx25mm的基片，基片不加热，可自转，速度5～20转/分；

占地面积（长x宽x高）:

约1米x1米x1.9米

电控描述:

手动

工艺:

不含工艺

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；电控系统；配气系统等部分组成。

设备用途：
热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。