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高真空热阻蒸发薄膜沉积系统--DZ450

产品对比

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高真空热阻蒸发薄膜沉积系统--DZ450

该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。该系统可与手套箱对接。

零售价

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市场价

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浏览量:

1000

产品编号

所属分类

蒸发镀膜设备

真空室结构:

方形前开门

真空室尺寸:

400×400×450mm

极限真空度:

≤6.0E-5Pa

沉积源:

3个钨舟、2个有机源

样品尺寸，温度:

4寸，1片，最高800℃

占地面积（长x宽x高）:

约2.5米×1.2米×1.8米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性：≤±5%

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成。该系统可与手套箱对接。

设备用途：
热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。

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