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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500

产品对比

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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。

零售价

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市场价

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浏览量:

1000

产品编号

所属分类

磁控溅射镀膜系统

真空室结构:

方形前开门

真空室尺寸:

φ500x500x500mm

极限真空度:

≤3.0E-5Pa

沉积源:

永磁靶4套，φ2英寸

样品尺寸，温度:

φ4英寸，1片，最高800℃

占地面积（长x宽x高）:

约2米×1.7米×2米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性：≤±3%

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业领先的软件控制系统。

设备特点：

本设备是一个镀膜平台，可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。

设备用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

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