English

热门搜索：磁控溅射 PVD镀膜离子泵干式真空泵

您现在的位置：

高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500

产品对比

(

)



这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称

高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500

系统主要由感应熔炼真空室、转动门、单辊旋淬装置、感应熔炼机构、手动直线进给机构、喷铸系统、工作气路、系统抽气、真空测量及电气控制系统、安装机台等各部分组成。

零售价

0.0

元

市场价

0.0

元

浏览量:

1000

产品编号

所属分类

高真空甩带甩丝系统

真空室结构:

圆筒形前开门

真空室尺寸:

φ500X300mm

极限真空度:

≤6.67E-5Pa

沉积源:

样品尺寸，温度:

感应熔炼10克纯铁样品，在30秒钟内熔化

占地面积（长x宽x高）:

约2.7米x1.4米x2米

电控描述:

手动

工艺:

不含工艺

特色参数 :

高速辊轮线速度0-50m/s可调；坩埚手动直线进给机构；条带接收器：Φ125x1500mm

数量

库存:



产品描述

[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[产品参数, 参数]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]

产品概述：
系统主要由感应熔炼真空室、转动门、单辊旋淬装置、感应熔炼机构、手动直线进给机构、喷铸系统、工作气路、系统抽气、真空测量及电气控制系统、安装机台等各部分组成。

设备用途：
高真空单辊旋淬及喷铸系统是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备，该设备具有制备金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作，广泛用于新型稀土永磁材料、非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。

上一个

无

下一个

高真空金属非晶丝制备系统--VSS500

高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500

相关下载