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金属有机源气相沉积系统--MOCVD

产品对比

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金属有机源气相沉积系统--MOCVD

MOCVD系统主要由真空室反应系统、气体（载气与气相有机源）输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。

零售价

0.0

元

市场价

0.0

元

浏览量:

1000

产品编号

所属分类

MOCVD镀膜设备

真空室结构:

卧室

真空室尺寸:

Ф400mm×300mm（L）

极限真空度:

10 Pa

沉积源:

设计待定

样品尺寸，温度:

设计待定

占地面积（长x宽x高）:

约4.5米x3.5米x3米（设计待定）

电控描述:

屏幕操作

工艺:

不含工艺

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
MOCVD系统主要由真空室反应系统、气体（载气与气相有机源）输运控制系统、有机源蒸发输运控制系统、电源控制系统、尾气处理及安全保护报警系统组成。

设备用途：
MOCVD系统作为化合物半导体、超导等薄膜材料研究和生产的手段，特别是作为工业化生产的设备，有着其它半导体设备无法替代的优点。它的高质量、稳定性、重复性及多功能性越来越为人们所重视。它是当今世界上生产半导体光电器件和微波器件材料的主要手段，如激光器、发光二极管、高效太阳能电池、光电阴极等，是光电子等产业不可缺少的设备。

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金属有机源气相沉积系统--MOCVD

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