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高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZS500

产品对比

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高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZS500

系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热阻蒸发组件、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成，自动控制软件系统。

零售价

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市场价

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浏览量:

1000

产品编号

所属分类

电子束蒸发镀膜设备

真空室结构:

U形前开门

真空室尺寸:

500x500x600mm

极限真空度:

≤6.67E-5Pa

沉积源:

4个11cc坩埚

样品尺寸，温度:

φ4英寸，1片，最高800℃

占地面积（长x宽x高）:

约2.7米x1.7米x2.1米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性：≤±3%

特色参数 :

样品可自转，转速可调

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热阻蒸发组件、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成，自动控制软件系统。

设备用途：
电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高纯薄膜和导电玻璃等各种光学材料薄膜。

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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统--EB900

高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZS500

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