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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300

产品对比

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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300

产品概述：系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途：用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。

零售价

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市场价

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浏览量:

1000

产品编号

所属分类

激光镀膜设备

真空室结构:

球形结构

真空室尺寸:

Ф300mm

极限真空度:

≤6.67E-5Pa

沉积源:

Φ30mm,每次可装4块靶材，可实现公转换靶位；每块靶材可自转，转速5～60转/分；

样品尺寸，温度:

1英寸，最高800℃

占地面积（长x宽x高）:

约1.8米x0.97米x1.9米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性：≤±5%

特色参数 :

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

设备用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。

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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD450

高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300

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