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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统--EB900

产品对比

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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统--EB900

系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁隔离安装，操作面板一端处在相对要求较高超净环境，其余部分（含低温泵抽系统）处在相对要求较低超净环境。

零售价

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市场价

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浏览量:

1000

产品编号

所属分类

电子束蒸发镀膜设备

真空室结构:

U形前开门

真空室尺寸:

900×900×1100mm

极限真空度:

≤6.0E-5Pa

沉积源:

6个40cc坩埚

样品尺寸，温度:

φ4英寸，26片，最高300℃

占地面积（长x宽x高）:

约3.5米x3.9米x2.1米

电控描述:

全自动

工艺:

片内膜厚均匀性：≤±3%

特色参数 :

样品尺寸及数量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架：可根据用户基片尺寸设计工件架

数量

库存:

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产品描述

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产品概述：
系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁隔离安装，操作面板一端处在相对要求较高超净环境，其余部分（含低温泵抽系统）处在相对要求较低超净环境。

设备用途：
本系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。

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高真空电子束及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZS500

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