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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统--EB900
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高真空电子束蒸发薄膜沉积系统--EB900

系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成,体现立方整体外观,适用于超净间间壁隔离安装,操作面板一端处在相对要求较高超净环境,其余部分(含低温泵抽系统)处在相对要求较低超净环境。
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浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
U形前开门
真空室尺寸:
900×900×1100mm
极限真空度:
≤6.0E-5Pa
沉积源:
6个40cc坩埚
样品尺寸,温度:
φ4英寸,26片,最高300℃
占地面积(长x宽x高):
约3.5米x3.9米x2.1米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性:≤±3%
特色参数 :
样品尺寸及数量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根据用户基片尺寸设计工件架
数量
-
+
库存:
1
产品描述
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产品概述:
系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成,体现立方整体外观,适用于超净间间壁隔离安装,操作面板一端处在相对要求较高超净环境,其余部分(含低温泵抽系统)处在相对要求较低超净环境。

设备用途:
本系统配有一套电子枪及电源,可满足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。
 

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