热门搜索:磁控溅射   PVD镀膜   真空泵
您现在的位置:
首页
/
/
/
/
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD450
产品对比
(
0
)
最多可同时对比5款产品
对比 ( 0 / 5 )
关闭
产品对比 ( 0 )
您还没有添加产品哦~
请先在网站后台添加数据记录。
关闭
清空
对比
这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称

高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD450

系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
球形前开门
真空室尺寸:
φ450mm
极限真空度:
≤6.67E-6Pa
沉积源:
φ2英寸靶材,4个
样品尺寸,温度:
φ2英寸,1片,最高800℃
占地面积(长x宽x高):
约1.8米x0.97米x1.9米
电控描述:
全自动
工艺:
特色参数 :
数量
-
+
库存:
1
产品描述
[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[产品参数, 参数]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]

产品概述:
系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

设备用途:
脉冲激光沉积(Pulsed Laser DeposiTION,简称PLD)是新近发展起来的一项技术,继20世纪80年代末成功地制备出高临界温度的超导薄膜之后,它独特的优点和潜力逐渐被人们认识和重视。该项技术在生成复杂的化合物薄膜方面得到了非常好的结果。与常规的沉积技术相比,脉冲激光沉积的过程被认为是“化学计量”的过程,因为它是将靶的成分转换成沉积薄膜,非常适合于沉积氧化物之类的复杂结构材料。当前脉冲激光制备技术在难熔材料及多组分材料(如化合物半导体、电子陶瓷、超导材料)的精密薄膜,显示出了诱人的应用前景。
 

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加

相关下载

暂时没有内容信息显示
请先在网站后台添加数据记录。

请您留下宝贵意见和建议

留言应用名称:
客户留言
描述:
这是描述信息

扫一扫关注
微信公众平台

Copyright 2020 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司    网站建设:中企动力   沈阳     辽ICP备15011951号