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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500
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高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
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市场价
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浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
方形前开门
真空室尺寸:
φ500x500x500mm
极限真空度:
≤3.0E-5Pa
沉积源:
永磁靶4套,φ2英寸
样品尺寸,温度:
φ4英寸,1片,最高800℃
占地面积(长x宽x高):
约2米×1.7米×2米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性:≤±3%
特色参数 :
数量
-
+
库存:
1
产品描述
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产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。

 

设备特点:

本设备是一个镀膜平台,可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。

设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
 

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