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高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统--FJL560
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高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统--FJL560

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
零售价
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市场价
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浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
圆筒形上升盖
真空室尺寸:
φ550x450mm
极限真空度:
≤6.0E-5Pa
沉积源:
磁控靶3套,φ2英寸;四工位转靶1套;
样品尺寸,温度:
φ2英寸,6片。最高800℃
占地面积(长x宽x高):
约3米×1.1米×2米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性:≤±3%
特色参数 :
溅射源:考夫曼离子源 Kaufman 2套,φ2英寸
数量
-
+
库存:
1
产品描述
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产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。

设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
 

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