热门搜索:磁控溅射   PVD镀膜   真空泵
您现在的位置:
首页
/
/
/
/
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450
产品对比
(
0
)
最多可同时对比5款产品
对比 ( 0 / 5 )
关闭
产品对比 ( 0 )
您还没有添加产品哦~
请先在网站后台添加数据记录。
关闭
清空
对比
这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称这里是产品名称

高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
圆筒形前开门
真空室尺寸:
φ450x400mm
极限真空度:
≤6.6E-6Pa
沉积源:
永磁靶3套,φ2英寸,可以向上溅射或向下溅射。
样品尺寸,温度:
φ4英寸,1片,最高800℃
占地面积(长x宽x高):
约1米×1.8米×2米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性:≤±3%
特色参数 :
数量
-
+
库存:
1
产品描述
[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[产品参数, 参数]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]

产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。

设备用途:
可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

用户评价:
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关,功能齐全,性能稳定,自动化程度高,抽气极速平稳,电源稳定可靠,气路流畅密闭,镀膜质量平整光滑,均匀致密,结合力强,且系统操控智能,便捷,可满足科研实验与生产制造的需求,是一款优秀的磁控溅射镀膜系统。——北京石墨烯技术研究院有限公司 李老师
 

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加

相关下载

上一页
1

请您留下宝贵意见和建议

留言应用名称:
客户留言
描述:
这是描述信息

扫一扫关注
微信公众平台

Copyright 2020 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司    网站建设:中企动力   沈阳     辽ICP备15011951号