热门搜索:磁控溅射   PVD镀膜   真空泵

蒸发镀膜设备

蒸发镀膜设备产品
蒸发镀膜设备
蒸发镀膜设备
高真空有机及热阻蒸发薄膜沉积系统--DZ350
编号:
产品概述:该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。设备用途:热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。蒸镀薄膜种类:Au,Cr,Ag,Al,Cu,In,有机物等。
高真空热阻蒸发薄膜沉积系统--DZ450
编号:
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。该系统可与手套箱对接。
SMART蒸发薄膜沉积系统
编号:
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。
上一页
1

请您留下宝贵意见和建议

留言应用名称:
客户留言
描述:
这是描述信息

扫一扫关注
微信公众平台

Copyright 2020 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司    网站建设:中企动力   沈阳     辽ICP备15011951号