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激光镀膜设备

激光镀膜设备产品
激光镀膜设备
激光镀膜设备
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300
编号:
产品概述:系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。
高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD450
编号:
系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
超高真空激光分子束外延薄膜沉积系统--LMBE450
编号:
系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、立式旋转靶台、基片加热台、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统、计算机控制等各部分组成。
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