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磁控溅射镀膜系统

磁控溅射镀膜系统产品
磁控溅射镀膜系统
磁控溅射镀膜系统
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD400
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
SMART磁控溅射薄膜沉积系统
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
线列式磁控溅射系统
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--TRP450
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统--PC450
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--JGP450
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--JGP560
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统--FJL560
编号:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业领先的软件控制系统。
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