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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300
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高真空脉冲激光溅射薄膜沉积系统--PLD300

产品概述:系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。设备用途:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。
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市场价
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浏览量:
1000
产品编号
真空室结构:
球形结构
真空室尺寸:
Ф300mm
极限真空度:
≤6.67E-5Pa
沉积源:
Φ30mm,每次可装4块靶材,可实现公转换靶位;每块靶材可自转,转速5~60转/分;
样品尺寸,温度:
1英寸,最高800℃
占地面积(长x宽x高):
约1.8米x0.97米x1.9米
电控描述:
全自动
工艺:
片内膜厚均匀性:≤±5%
特色参数 :
数量
-
+
库存:
1
产品描述
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产品概述:
系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

设备用途:
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研。
 

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