PRODUCT

产品中心

首页 » 产品中心 » PVD镀膜设备 » 磁控溅射镀膜系统

TRP-450型磁控溅射系统
编号:SN20151013152824655
类别:磁控溅射镀膜系统
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(三个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

留言咨询 (* 为必填项目)
* 姓名
* 内容
* 验证码
 
QQ在线咨询
在线QQ客服
3249891528
咨询热线
024-23826855